2月21日， 日本半导体光刻光源制造商Gigaphoton株式会社宣布，将在其ArF和KrF产品线中增加两款新光源，包括采用新技术的ArF浸没式激光器“GT66A”以及KrF激光器“G60K”。
近年来，随着物联网和人工智能的迅速发展，半导体芯片被要求实现更快的通信速度以及数据处理能力。尤其在2020年，5G服务开始面向大众，因此，10nm以下节点的紧凑、高速、低功耗逻辑电路，以及大容量存储芯片被迫切需求。
新型ArF浸没式激光器“GT66A”配备了新开发的光学模块，有效降低了光源空间相干性，并改善了曝光面的光束均匀性。新型KrF激光器“G60K”则第一次进行了完全的模式改变，通过引进新型电源单元， 实现了以往1.5倍的输出。Gigaphoton通过这些新技术为芯片制造商提供支持。
Gigaphoton董事长兼总经理Katsumi Uranaka表示：“结合物联网、人工智能、5G技术的产品和家用电器越来越受欢迎，这推动了工厂、医疗、汽车和社会基础设施等各种环境中的设备更加智能化，我们将为工业部门提供新的产品系列，为新一代产业界的发展做出贡献。”（李茜楠）