据报道，荷兰ASML正制造新款极紫外光线（EUV，extreme ultraviolet）光刻机，预计每台售价约4亿美元，或将在2023年上半年完成制造，并有望在2025年交付芯片供应商。
　　据悉，该光刻机重达200多吨，有“双层巴士”那么大，旨在生产可用于手机、笔记本电脑、汽车以及人工智能等领域的计算机芯片上所需的微观电路。
　　ASML的总部位于靠近比利时边境的荷兰南部小镇维尔德霍芬（Veldhoven），该公司的高管告诉外媒，该公司和其长期合作伙伴——一家名为IMEC的非营利性研究机构正建立一个测试实验室。这也意味着，未来全球顶级芯片制造商和供应商，可以试用该光刻机的性能，以决定是否购买。
　　EUV，即ASML 最先进的机器所使用的光波波长，指的是电磁波谱中波长从121纳米到10纳米的电磁辐射所在的频段。ASML CEO彼得·温宁克（Peter Wennink）告诉媒体，过往10年间该公司已出售大约140台EUV光刻机，单价约2亿美元一台。
　　而本次研发的是使用“High-NA”的EUV。对于ASML来说，只有实现此次研发目标，才不会让自己丧失竞争力和失去订单。
　　该项目的“命运”对ASML的客户来说也很重要，因为芯片制造商在全球资源短缺的情况下竞相扩大生产。比如英特尔、三星、台积电等，其中台积电正在为苹果、AMD和英伟达等公司生产芯片。
　　据悉，ASML的机器每台成本高达1.6亿美元，但是机器短缺是芯片制造商正面临的瓶颈。因此，芯片制造商们计划在未来几年花费1000多亿美元建造额外的制造工厂，以便满足客户需求。
　　此前，台积电在2010年代末首次整合了ASML的EUV机器，借此一举超越竞争对手。也正因此，台积电的竞品厂商曾表示，不会再在“HighNA”上“犯错”。
　　在缩小芯片制程上，EUV光刻机有着重要作用。“High-NA”技术有望将电路面积降低66%。在芯片制造中，越小的才越好。因为在同一空间中封装的晶体管越多，芯片就越快、越节能。
　　当前，芯片电路正接近原子水平，这也让人们开始认识到“摩尔定律”失效，“摩尔定律”指的是芯片上的晶体管数量大约每两年翻一番。
　　采用“High-NA”的机器将比之前的机器大30%左右，IMEC表示，它认为和ASML共同建立上述实验室，可为芯片制造商节省长达一年的开发时间。
　　ASML方面称，它有5台试验机器的订单，2024年或2025年，ASML将加快生产型的交付。
　　但在复杂部件的集成上，ASML仍存在巨大挑战，其中就包括由德国卡尔蔡司在真空中制造的抛光、超光滑曲面镜的光学系统。
　　回顾过往，自2000年以来，ASML从日本竞争对手尼康和佳能手中快速夺取了市场份额。自那时至今，ASML控制着超过90%的光刻机市场。以至于没有任何竞争对手敢以高开发成本，去构建类似的EUV系统。过去十年间，该公司的发展十分顺遂，股价一度飙升1000%，当前市值为2145.22亿美元，同时也获得了光刻机系统的全球大部分订单。
　　虽然ASML在业内享有近乎垄断的地位，但是“定价取决于机器生产力”。与此同时，有能力生产领先芯片的公司数量正在减少，ASML又必须向其出售EUV工具，其中也包括内存芯片制造商SK海力士和美光（Micron）。
　　一些研究人员预计，ASML在未来十年的年销售额将翻倍，并有望超过1万亿美元。但是，一个必须面对的现实是，ASML在“High-NA”技术的供应链上仍面临着一定压力。美国塔夫茨大学弗莱彻学院助理教授克里斯·米勒（Chris Miller）告诉外媒，虽然ASML是荷兰企业，但在光刻机的零部件上，仍在严重依赖美国供应商。
　　此外，由于投资人预计ASML将获得更进一步的主导地位和业绩增长，以证明其2021年市盈率35倍的估值是合理的，所以就算该公司遇到技术阻碍或供应链障碍，它也几乎没有犯错的余地。
　　产业调查机构TechInsights芯片经济学家丹·哈奇森（Dan Hutcheson） 认 为，“High-NA”EUV可以为一些芯片制造商带来显著优势。 （辛文）